高燃料利用率或高電流密度時，濃度過電勢較高；
但不足之處是發*電流密度太小和有較大的柵極電流。
並結合現場測試條件,提供了最佳拋光電流密度.
而變形熔池表面的電流密度和熱流密度分佈則不再符合近似的高斯分佈。
任何電鍍都必須有一個能產生正常鍍層的電流密度範圍。
在結半徑比較小的情形給出電流密度分佈、磁場強度分佈以及臨界電流值的近似解析公式。
理論解析表明，運用交變電磁力在液體金屬內生成的磁聲波的強度和所施加的靜磁場的磁感應強度和交流電流的電流密度的乘積成正比；
實驗發現，隨着電流密度的增大，時間的延長和電解液濃度的降低，多孔硅發光峯位會有藍移。
電流密度與温度對鐵氧體半導化的速率和程度的影響沒有簡單的單向關係。
超電壓在某種程度上隨電流密度成反比地變化。
提出了將媒質中由飽和引起的體電流密度化為等效面電流密度的計算方法。
第二個定理定義了“等效磁荷”與‘電流密度矩’。
微細電鑄過程中，*極表面的電流密度分佈直接影響沉積層的質量。
在中等及中等以下電流密度下，隧道穿透過程是重要的。
利用電暈線支撐部分和屏蔽管的靜電屏蔽效應，可以改善電除塵器板電流密度分佈，減弱反電暈，並可得到高電壓低電流的安全運行狀態。
位錯增加了閾值電流密度的激光器通過漏電流。
並結合現場測試條件，提供了最佳拋光電流密度。
利用測量電解液中ir降以計算電流密度的方法，測量了兩種負極板的電流電勢分佈。
本文應用有限元方法和超導臨界態理論，推導了高温超導體電流分佈和電流密度計算方程。
研究了電流密度、鍍液温度及鍍層厚度對*青銅上鈀鍍層的焊錫*與潤濕平衡的影響。
使用電流密度對其整平能力有很大影響。
一百拋光過程中因鈍化膜被磨損，腐蝕加快，腐蝕電流密度大幅增加。
*弧光放電是一種低氣壓氣體放電現象，放電電流密度大。
得到電流密度與阻尼器通道處磁感應強度之間的關係。
電流掃描值已被用*地成果轉換成估量地電流密度。
針對電力部門提出的分時計價原則，根據由生產過程數據所建立的不同*度下電流密度與電流效率間關係，建立鋅電解過程分時供電優化模型。
用本模型計算出的平坦熔池表面電流密度和熱流密度的分佈與試驗結果顯示了很好的一致*。
雙異質結構實現了光和載流子的完全限制，使閾值電流密度大幅度下降。
